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APS Series

感应式SiC长晶炉

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APS Series 感应式SiC长晶炉
APS Series Induction SiC Crystal Growing Furnace
APS系列长晶炉适用于6/8英寸导电和高纯半绝缘型SiC晶体生长，创新的结构设计，可提供高纯材料生长能力，拥有高精度的控温、控压能力，工艺性能优良，设备一致性好，具有丰富的量产经验。
设备特点
  • 适用于6、8英寸，导电/高纯半绝缘型SiC晶体生长
  • 专业的结构设计，提供高纯材料生长能力
  • 适于长时/高温/低压工艺，拓宽高质量/大规模晶体生长窗口
  • 包含多款辅助设备，大产能原料合成炉、晶锭退火炉、AlN长晶炉及其他
产品应用
  • 晶圆尺寸
    6、8英寸
  • 适用材料
    碳化硅、氮化铝
  • 适用工艺
    物理气相输运法（PVT 法）
  • 适用领域
    化合物半导体、衬底材料、科研领域
  • 加热方式
    感应加热
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