半导体装备 Semiconductor

FLOURIS A201

8英寸立式低温退火炉

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FLOURIS A201 8英寸立式低温退火炉
FLOURIS A201 8 Inch Vertical Low-Temp Anneal Furnace
FLOURIS A201主要用于8英寸低温合金化及退火工艺。设备具有自动化程度高、系统性能稳定的特点,可以实现快速升降温。主要由工艺腔室、传输系统、快速降温系统、尾气处理系统和温度控制系统等组成,可实现铜退火及合金等工艺,微环境可以进行低氧含量控制。
设备特点
  • 工艺温度范围扩展性良好
  • 温度恢复性能优良
  • 低温控制稳定性好
  • 系统可维护性好
产品应用
  • 晶圆尺寸
    8英寸
  • 适用材料
    硅、碳化硅
  • 适用工艺
    氮气退火、合金
  • 适用领域
    集成电路、功率半导体、化合物半导体、硅基微型显示、科研领域
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