EPEE i800系列主要用于6英寸及以下氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等介质薄膜沉积工艺,采用单腔多片自动化传输架构,兼容蓝宝石、SiC、砷化镓等不同衬底规格,可广泛应用于化合物半导体、半导体照明、科研等领域。